本發明公開了一種具有微納米級拓撲結構的導電神經修復材料及其制備方法與應用,屬于生物醫用材料領域。該制備方法包括如下步驟:利用軟光刻技術及熔融鑄膜工藝制備具有微納米級溝槽拓撲結構的PDMS基底;將聚乳酸?羥基乙酸共聚物溶于有機溶劑中,再加入聚3,4?乙撐二氧噻吩,溶劑蒸發后獲得均勻分散的PLGA/PEDOT復合材料;將所得復合材料均勻鋪展在PDMS基底上,再進行加熱熔融鑄膜處理,冷卻后將薄膜從PDMS基底上剝離下來,即得到具有微納米級拓撲結構的導電神經修復材料。本發明的制備工藝簡單,成本較低,所得薄膜結合了導電高分子和表面圖案化的優勢,可應用于外周神經組織工程支架的制備。
聲明:
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