實施方式涉及一種陶瓷部件及包括其的等離子體蝕刻裝置等。一實施方式涉及一種陶瓷部件,其為應用于等離子體蝕刻裝置的陶瓷部件,上述陶瓷部件的特征在于,上述陶瓷部件包括復合材料以及與上述復合材料相接填充的基質,上述復合材料包括選自由碳化硼基材料和碳基材料中的一種,上述基質包括碳化硼基材料,上述復合材料的碳化硼基材料在通過拉曼光譜學測定的拉曼位移光譜中,在481cm?1附近的峰的強度Ia與在534cm?1附近的峰的強度Ib之總和Iab和在270cm?1附近的峰的強度Ic與在320cm?1附近的峰的強度Id之總和Icd的比Iab/Icd為0.7至2.8,上述復合材料的碳基材料在通過拉曼光譜學測定的拉曼位移光譜中,G帶峰的強度Ie與D帶峰的強度If的比Ie/If為0.2至2。
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“陶瓷部件及包括該陶瓷部件的等離子體蝕刻裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)