本發明提供一種低發射率復合材料及其制備方法,具體地說是一種用氮化鈦與金屬摻雜的復合材料及制備方法。具體是采用磁控反應濺射法,濺射氣體為氬氣,反應氣體為高純氮氣,設備使用一臺雙靶磁控濺射鍍膜機,首先在基材上磁控反應濺射沉積一層的氮化鈦(TiN),再沉積一層銅(Cu),再沉積一層的氮化鈦(TiN),如是一個周期,重復上述步驟至少在基材上反應濺射兩個周期,最終形成基材/TiN/Cu(Al)/TiN/Cu(Al)/TiN。
聲明:
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