本發明公開了一種金剛石膜與石墨復合材料,其主要用作聚變裝置面向等離子體材料,金剛石膜生長于石墨的表面,形成金剛石膜與石墨復合材料。本發明的金剛石膜與石墨復合材料具有用作聚變裝置面向等離子體材料(PFMs)的對慢中子的吸收量小、高溫強度好、抗熱震性高、對快中子的減速性能好、在輻照下尺寸穩定、雜質含量極少,同時具有較高的體積密度等優點。
聲明:
“金剛石膜與石墨復合材料” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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