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鎳納米顆粒及硅鎳納米物質共同修飾的硅納米線復合材料及制備方法

701   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 15:34:01
本發明公開一種鎳納米顆粒及硅鎳納米物質共同修飾的硅納米線復合材料及制備方法，復合材料包括鎳納米顆粒、Si2Ni納米物質及硅納米線，鎳納米顆粒尺寸在10?30nm，Si2Ni尺寸在20?40nm，硅納米線的直徑為1?500nm，長度為5?200μm。復合材料中的硅納米線是利用氧化物輔助合成得到的，是在沒有金屬催化劑的條件下，以硅及硅的氧化物作為原料，采用直接熱蒸發的方法制得；再利用溶液化學還原法，氫氟酸刻蝕硅納米線表面形成具有還原性的硅氫鍵，在190℃條件下與鎳鹽反應，得到鎳納米顆粒修飾的硅納米線復合材料，其中還包含Si2Ni納米物質在其表面生成。硅基材料在室溫下非常穩定，通過氧化輔助還原法時所采用的載氣流量、反應溫度和時間來加以調控，且本發明工藝簡單，重復性好。
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