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含有α-Al2O3涂層的C/SiC復合材料坩堝

1139   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 15:23:01
本發明涉及一種含有α?Al2O3涂層的C/SiC復合材料坩堝，屬于單晶硅拉制爐用熱場部件技術領域。本發明所述復合材料坩堝包括C/SiC復合材料坩堝本體以及涂覆在坩堝本體內表面的α?Al2O3涂層，且C/SiC復合材料坩堝本體中的陶瓷基體為β?SiC；α?Al2O3涂層與β?SiC陶瓷基體具有良好的適配性，結合強度高，在滿足坩堝力學性能要求的基礎上，一方面大大降低了Si蒸汽對坩堝的侵蝕，而且避免了對復合材料坩堝的機械損傷，提高了坩堝的使用壽命，一方面在單晶硅拉制過程中不會引入雜質成分，保證了拉制單晶硅過程中熔融硅的純度，滿足單晶硅拉制的需求，相比于同時使用石英坩堝和炭/炭復合材料坩堝拉制單晶硅，采用本發明所述復合材料坩堝拉制單晶硅的成本降低。
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“含有α-Al2O3涂層的C/SiC復合材料坩堝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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