一種磁致伸縮多層膜直接磁性耦合制備方法,屬磁敏感功能材料技術領域。(1)拋光預處理襯底;其襯底為可溶于蒸餾水的可溶性立方結構晶體;(2)利用高真空磁控濺射設備在襯底上依次濺射緩沖層、磁致伸縮復合層、保護層;上述磁致伸縮復合層為壓磁材料層和反鐵磁材料層交替沉積的人工周期多層膜結構,周期數為50~100,上述壓磁材料層厚度需小于其交換耦合長度,反鐵磁層厚度需大于其臨界厚度,在沉積磁致伸縮復合層時,施加50~500OE的平面誘導磁場;(3)沉積完成后進行熱處理以消除內應力;(4)再將樣品浸入到蒸餾水中使多層膜與襯底剝離。本方法可用于設計制備具有近零場磁敏特性的磁致伸縮材料,方法簡單、效果好。
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