本發明屬功能材料制備技術領域,涉及一種三維?多孔MOFs/聚多巴胺基聚碳酸酯徑跡蝕刻印跡膜的制備方法及應用;步驟為:首先以多孔聚碳酸酯徑跡蝕刻膜為基膜材料,利用多巴胺自聚?復合改性技術結合MOFs納米復合過程,構建ZIF/聚多巴胺基聚碳酸酯徑跡蝕刻膜,最后以普萘洛爾為模板分子,氨丙基三乙氧基硅烷和正硅酸四乙酯為功能單體和交聯劑,優化設計溶膠凝膠印跡聚合過程,制備基于普萘洛爾選擇性吸附與分離的三維?多孔MOFs/聚多巴胺基聚碳酸酯徑跡蝕刻印跡膜。本發明解決納米復合層分布不均和穩定性差等問題,獲得高比表面積、高吸附性和結構穩定的膜表面,實現選擇滲透性及通量的協同強化。
聲明:
“三維-多孔MOFs/聚多巴胺基聚碳酸酯徑跡蝕刻印跡膜的制備方法及應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)