一種光敏聚酰亞胺及其制備方法,屬于感光耐熱 高分子功能材料。所述PSPI的主要成份的重復結構單元結構 式為:(見圖)其中,聚合度n=1-200; Ar1為芳香酮化合物; Ar2為苯環或萘環;R為鄰位上含 烷基、烷氧基或甲硫基的苯環;R′為α、β不飽和酮基或取 代α、β不飽和酮基。以苯環鄰位上含烷基、烷氧基或甲硫基 的光敏性二胺和含丙烯?;墓饷粜远窞樵?,將四羧酸二 酐有機溶液緩慢滴入光敏性二胺混合溶液進行聚合,再通過化 學亞胺化得到所述PSPI。該類聚合物是一種結構型與自增感型 結合的PSPI,分子結構中含有兩種能夠發生光交聯反應的光敏 活性基團,具有更高的光敏性和分辨率,優異的熱穩定性和溶 解性,光刻成形后膜的收縮率極小,在光刻工藝中有著廣泛的 應用前景。
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