本發明公開了一種釹鐵硼顆粒連續復合鍍膜裝置及對釹鐵硼晶界深度調控的方法,涉及燒結釹鐵硼制造領域。該裝置包括進料系統、鍍膜系統、出料系統、直流偏壓電源、冷卻系統和抽真空系統。鍍膜室內部包括反濺清洗區和濺射鍍膜區。顆粒通過布料斗均勻布置在電磁振動布料工作臺上進行反濺清洗,之后運動到磁控濺射鍍膜工作臺上進行多靶材連續復合磁控濺射鍍膜。出料室內的集料斗收集顆粒并導入旋轉冷卻滾筒進行冷卻,調整布料斗尺寸以調整顆粒粉料厚度,調整電磁振動角以調整粉料行進速度,調整濺射電流來調整靶材的沉降速率,進而控制顆粒表面的膜層厚度。該方法可對燒結釹鐵硼進行深度高效的晶界調控,改善了磁體性能、耐腐蝕性和機械特性。
聲明:
“釹鐵硼顆粒連續復合鍍膜裝置及對釹鐵硼晶界深度調控的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)