本發明屬于半導體制造技術領域,具體涉及一種自潔性多孔真空吸盤及其制備方法。所述自潔性多孔真空吸盤,包括基座以及設于基座上的多孔金屬吸附板,所述基座中部設有沉臺,多孔金屬吸附板卡接于沉臺內;所述基座的沉臺中部設有貫穿基座的抽氣孔,沉臺上表面設有十字交叉槽和若干沿豎直向下延伸的同心環形凹槽,所述十字交叉槽貫穿環形凹槽和抽氣孔。本發明的多孔真空金屬吸盤,其多孔金屬吸附板內部縱橫交錯的通道以及吸盤基座腔體上通氣溝槽表面均沉積了PTFE防粘涂層,能夠解決目前主流多孔真空陶瓷吸盤,微孔易堵塞且不易清潔的問題。
聲明:
“自潔性多孔真空吸盤及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)