本發明涉及在旋轉或舟形爐中,通過使用氫作為 還原劑,還原鉬酸銨或三氧化鉬得到的高純 MoO2粉末。將通過壓制/燒結、 熱壓和/或HIP進行的粉末固結用來制備圓盤、厚塊或板,該 圓盤、厚塊或板用作濺射靶。使用適宜的濺射方法或其它物理 方式將該MoO2圓盤、厚塊或板 形式濺射在基底上,從而提供具有期望膜厚的薄膜。就透射率、 導電率、功函數、均勻性以及表面糙度而言,該薄膜具有與氧 化銦錫(ITO)和摻鋅ITO可比或優于其的性能如電的、光的、 表面粗糙度以及均勻性??蓪⒃?MoO2和含該 MoO2的薄膜用在有機發光二極 管(OLED)、液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示板(PDP)、場致 發射顯示器(FED)、薄膜太陽能電池、低電阻率歐姆接觸以及 其它電子和半導體器件中。
聲明:
“制備MoO2 粉末的方法、由MoO2粉末制備的產品、MoO2薄膜的沉積以及使用這種材料的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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