本發明涉及光學鍍膜材料領域,尤其涉及一種圓片形氟化鎂MgF2晶體鍍膜材料及其生產方法,其特征在于,該材料是一種無色透明的多晶光學晶體,在波長500mm處,其折射率?Ne=1.38,材料密度約為3.17克/cm3;該材料的形狀是適應各種規格電子槍坩堝或堝襯的直徑和深度設計加工的圓片形或圓錐柱形,其直徑尺寸范圍為20mm~56mm,厚度尺寸范圍為:5mm~30mm。與現有技術相比,本發明的有益效果是:完全滿足電子槍鍍MgF2膜坩堝的尺寸要求,裝取料極為方便,具有真正不飛濺、不崩點、無放氣量和蒸發面平坦等優異蒸發特性,有效提高被鍍光學元件表面光潔度,尤其適用于高質量鍍膜要求的超光滑光學元件表面鍍膜。
聲明:
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