本發明公開了一種醫用鈦表面制備含氟羥基磷灰石/氧化鋯過渡涂層的電化學方法,包括以下步驟:在具有三電極系統的電解槽中進行電沉積,醫用鈦片為工作電極;先在一定濃度和pH的硝酸氧鋯溶液中電沉積出Zr(OH)4鍍層,沉積電流11.1mA,沉積時間40s;隨后在一定濃度和pH的硝酸鈣、磷酸二氫銨和氟化鈉組成的電解液中沉積得到含氟羥基磷灰石(FHA)鍍層,沉積電流0.8mA,沉積時間3600s;經450℃真空燒結,得到FHA/ZrO2過渡涂層。氟部分取代磷灰石中的羥基,氟離子比羥基小,FHA晶格常數變小,使FHA溶解度較HA降低,涂層相貌由微米級的菊花瓣狀變化為納米級的尖錐狀,F離子的抑菌作用亦可防止齲齒;ZrO2作為鈦基體與FHA涂層之間的過渡層,FHA/ZrO2過渡涂層與Ti基結合強度有極大提高。FHA/ZrO2過渡涂層與鈦基結合強度高,抗生理溶解性強,抗菌性好,以期望成為具有良好發展前景的口腔醫用材料。
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