本實用新型涉及一種半連續真空感應加熱鎂還原爐,屬于有色金屬生產領域,適用于碳熱法還原金屬鎂及硅熱法還原金屬鎂。還原爐由半連續加料系統、感應加熱系統、出渣系統、鎂蒸氣冷凝系統、鎂錠澆注系統以及真空系統組成。還原區域采用真空感應加熱,加熱溫度不低于1000℃;鎂蒸氣冷凝系統采用電阻加熱,確保鎂蒸氣不以粉末形式冷凝。還原爐渣從還原罐下部排出,金屬鎂從鎂澆注系統澆注為鎂錠。實現了進料,出渣,澆注鎂錠的半連續生產。將反應容器和鎂蒸氣收集器分離。該還原爐能夠半連續進出料,適合皮江法和碳熱還原法煉鎂工藝的真空冶金設備,取代皮江法傳統的間斷式的還原罐工藝,提高熱效率,提高產量,降低能耗,降低污染以及設備損耗。
聲明:
“半連續真空感應加熱鎂還原爐” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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