本實用新型提出一種制備β?SiC納米粉體的真空還原熱處理設備,包括爐體,所述爐體內部設有放置盒,所述放置盒為頂部開口結構,所述放置盒內部設有多個隔板,所述放置盒一側與進料板相接觸,所述進料板一端與進料口相連,所述進料口設置在爐體端面上,所述進料板上設有多個凸條,所述凸條底部與滑軌滑動連接,所述滑軌固定連接在進料板頂部,所述凸條數量與隔板數量一致,所述凸條一端與隔板相接觸;通過設置放置盒以及在放置盒內設有隔板,并通過進料板進行放置石墨,可保證石墨在放置時間隔一致,提高其還原效果。
聲明:
“制備β-SiC納米粉體的真空還原熱處理設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)