本實用新型公開了一種大型臥式真空還原爐,包括:還原爐,所述還原爐內安裝有密封上料結構、攪拌結構以及密封結構;所述密封上料結構包含有:一對結構相同的上料圓柱箱、一對結構相同的密封軸、四對結構相同的密封板、一對結構相同的密封驅動機、一對結構相同的密封驅動齒輪以及一對結構相同的密封傳動齒輪;本實用新型涉及真空還原爐技術領域,通過密封上料結構對還原爐進行密封上料,避免了還原爐內化學反應時,排放出部分氣體,通過密封結構對還原爐與一對上料圓柱箱進行密封,通過擠壓一對L型密封板對一對伸縮移動密封口進行高壓擠壓密封,通過攪拌結構將還原爐內的還原原料攪拌均勻。
聲明:
“大型臥式真空還原爐” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)