本實用新型涉及一種RH真空室合金溜槽,屬于冶金窯爐技術領域。本實用新型包括由合金溜槽方磚砌筑而成的溜槽本體,溜槽本體的四周為由襯磚砌筑形成的襯磚區,襯磚區內設有鎖磚區,鎖磚區由鎖磚砌筑而成,鎖磚具有沿溜槽本體寬度方向呈相對設置的第一側面和第二側面,第一側面具有凸塊、第二側面具有凹槽,相鄰兩件鎖磚通過凸塊與凹槽相配合實現鎖扣,鎖磚區設于溜槽本體上方,且使得鎖磚區在水平面的投影可將溜槽本體在水平面的投影完全覆蓋。采用本實用新型后,對合金溜槽方磚進行挖補時,拆除過程中鎖磚區及其上方的襯磚不會垮塌,只需對合金溜槽方磚及其周圍的少量襯磚進行拆除和恢復,減少了用磚量,縮短了工期。
聲明:
“RH真空室合金溜槽” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)