本發明公開了一種鎂合金的高強高韌膜層及其制備方法,屬于微弧氧化領域。本發明的鎂合金的高強高韌膜層的制備方法,采用微弧放電在鎂合金表面進行原位生長生成具有微孔結構的膜層,在微弧放電的過程中釔鹽?鋯鹽體系電解液將在鎂合金上生成Y2O3,Y2O3作為晶型穩定劑,促使生成t?ZrO2和c?ZrO2不易發生晶型轉變,降低了晶型轉變過程中微裂紋的出現,改善了表面強韌條件,進而提高微弧氧化膜層的表面致密性,起到了增強增韌的效果,微孔結構的膜層與基體結合方式為冶金結合,微孔結構為原位生長,因此界面的結合力較好。
聲明:
“鎂合金的高強高韌膜層及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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