一種高硅鋼材料的制備方法,步驟包括靶材、金屬基材表面清理;排除密閉容器內空氣、通保護氣;雙輝光等離子預轟擊靶材和基材,凈化表面;等離子濺射、加熱、保溫;緩慢冷卻取出。預轟擊靶材、基材,去除表面吸附層、活化基材,交替升高基材電壓、靶材電壓,使靶材中的合金元素被離子轟擊而濺射出來、擴散進入基材內部形成表面高硅鋼層?!半p輝光等離子表面冶金技術”制備高硅鋼的工藝簡單易行、可控性高、成本低、無污染且基體和表面的結合力高,適合大規模產業化生產;更重要的是該方法采用交替離子轟擊、擴滲速度快,結合強度高,得到硅含量均勻分布或呈梯度分布的高硅鋼材料,為制備更高品質的無噪音、低鐵損的高硅鋼產業化奠定基礎。
聲明:
“高硅鋼材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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