本發明公開了一種鎂電解槽和鎂電解工藝,包括電解槽本體,電解槽本體由碳素材料制成,電解槽本體在中間處設有一分隔墻以使得電解槽本體被分為電解池和還原室,電解池和還原室上部由分隔墻隔離,下部連通;電解池的上方敞開,還原室上方有蓋板密封,電解池內安裝有陽極塊;蓋板或還原室的上部的側壁上開設有連接口。該鎂電解工藝采用二氧化硅、氧化鈣、氟化鈣、氧化鎂為電解液,直接用氧化鎂為原料。本發明提供的鎂電解槽結構簡單,建造方便,配合本發明提供的鎂電解工藝,具有工藝流程短、能耗低、電解液和原料獲取容易等優點,將極大地推動鎂冶金工業的發展,并改善環境污染的問題。
聲明:
“鎂電解槽及鎂電解工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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