本發明公開了一種在鋯表面滲鍍鉑薄膜的方法,其方法為:將經預處 理后的鋯工件置入帶有加熱裝置的真空離子鍍膜機,預抽真空至1×10-3Pa, 加熱工件至500℃~800℃,保溫一定時間,通入氬氣,調節真空度至1~ 9×10-1Pa,對工件加載負偏壓800~2000V,開啟裝有鉑濺射靶的濺射源; 調節負偏壓至100~500V,再沉積一定時間,關閉濺射源,直到鋯工件溫 度低于100℃后取出。本發明通過控制鍍膜工藝參數可制備0.1~10μm的 鉑擴滲層和0.1~50μm鉑沉積層,制備的鉑擴滲層與基體鋯沒有明顯的界 面,呈冶金結合。
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