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具有高熱穩定性和低TCR的富硅Cr-Si基電阻膜及其制備方法

970   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 14:46:12
本發明公開了一種具有高熱穩定性和低TCR的富硅Cr-Si基電阻膜及其制備方法，其元素組成及其質量百分比含量為43wt.%Cr,，55wt.%Si，2wt.%Mo；通過粉末冶金法制備Cr-Si-Mo靶材，采用磁控濺射法制備富硅Cr-Si基電阻膜：本底真空為3×10-3Pa，濺射真空為（0.65～5）×10-1Pa，濺射電壓為250～600V，濺射電流為100～300mA,Ar氣流量為15～35sccm，膜沉積時間為1～3h；于500℃下N2中退火2h。本發明的電阻溫度系數為-8～-25ppm/℃；按GJB1929-94標準進行壽命實驗和高溫貯存實驗后，電阻變化率均滿足ΔR/R≤1%，特別適用于精密儀器和高性能集成電路。
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