本發明涉及冶金領域的爐內氧含量和氮耗控制方法,是一種輻射管加熱無氧化輥底式爐低氧含量和低氮耗控制方法,是對輻射管加熱無氧化輥底式爐分區控制,將爐膛壓力、氧含量與充氮電磁閥門連鎖,根據每個分區的爐膛壓力和氧含量時時測量值,進行氧稀釋和爐壓調整的動態控制,確保爐門開啟時,爐膛內形成一定的正壓力。同時,根據熱處理工藝,合理選擇常開充氮電磁閥門數目和位置,輻射管加熱無氧化輥底式爐實現了正火或回火生產,尤其是淬火生產過程中超低氧含量和低氮耗控制。本發明使用最低的氮耗,顯著降低了淬火正火和回火生產過程中輻射管加熱無氧化輥底式爐內氧含量。
聲明:
“輻射管加熱無氧化輥底式爐低氧含量和低氮耗控制系統及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)