本發明屬于金屬氧化物涂層技術領域,公開了一種低溫反應濺射沉積納米α?Al2O3涂層的方法。將Al粉及α?Al2O3粉用粉末冶金的方法制成復合材料,切割成設備所需的尺寸后作為沉積靶材和工件基體分別安裝在射頻磁控濺射的靶工位和沉積腔室樣品臺上,排除沉積腔室殘留的水蒸汽后抽至本底真空,然后注入Ar+O2混合氣體進行預氧化處理;調整Ar+O2混合氣中的O2分壓至15%~25%范圍,并調整工件基體溫度至550~750℃范圍,啟動射頻磁控濺射鍍膜系統,開始反應沉積得到所述納米α?Al2O3涂層。本發明所得涂層為納米晶結構涂層,韌性好,與基體結合牢固,涂層在相對較低的溫度下具有穩定的α相結構。
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