一種制備高純材料的粉末冶金方法,涉及一種用于電子、太陽能行業的高純金屬或高純陶瓷的濺射靶材料的制備方法。其特征在于其制備過程中以純度不低于99.9%的金屬粉末或陶瓷粉末為原料,其步驟包括:(1)將粉體進行成形;(2)將成形后的坯料進行預燒結;(3)將預燒結后的坯料進行最終燒結,獲得高純度、致密的材料。采用本發明的方法,在低的氣氛壓力下進行預燒結時,降低雜質熔點,創造了雜質的揮發條件,去除了材料中的低熔點雜質。尤其是降低了材料中的C、O、Si、Cr、Ca、K、Mg、Ti、Ni等雜質元素含量,顯著提高了制成品的純度,保證濺射靶材的產品質量。
聲明:
“制備高純材料的粉末冶金方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)