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改善冶金法多晶硅生長界面的方法

837   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 14:36:55
一種改善冶金法多晶硅生長界面的方法，包括：(1)將多晶硅硅料裝入高純石英坩堝放入定向凝固爐中，抽真空至爐內真空度< 10Pa；(2)將爐溫升至1450?1550℃，熔化硅料；(3)對硅料外場處理，磁強0.15?0.5T，10?30?min；隨后爐體以5?10℃/min降溫，爐體運動部分以5?10?mm/h下移，硅熔體脫離加熱器長晶，1100?1200℃時關閉磁場；(4)長晶后，爐體運動部分以2?4mm/s上升至爐腔中初始位置，后將溫度升至1250?1350℃，保溫2?5h后冷卻，冷卻速率< 4℃/min。本發明采用外加靜態磁場來調控硅料生長過程中固液界面形態，得到平滑的固液界面，獲得了理想的柱狀晶粒組織，改善了硅錠質量；工藝環境更友好，與企業現有技術兼容，適用于規?；a。
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