一種從蛇紋石中制備納米 SiO2的方法,針對現有制備納米 SiO2技術中存在一些不足之處, 導致納米SiO2生產成本高、工藝 復雜,而不利于納米SiO2規?;?生產。本發明采取濃鹽酸回流浸取蛇紋石礦粉,將蛇紋石中的 可溶性金屬離子浸出,剩下的固體殘渣主要成分是多孔 SiO2,然后分別通過采用四氟化 硅和硅酸鈉法制取納米SiO2,從 而實現低成本、工藝簡便地制取納米 SiO2。
聲明:
“從蛇紋石中制備納米SiO2的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)