硅粉表面刻蝕裝置,屬于等離子體應用,目的在于縮短反應時間,減化結構,提高硅粉純化效率。本發明反應室上連接投料罐、出料罐和刻蝕氣體輸送系統,反應室內平行裝有板式陽極和陰極,陰極與水冷裝置連接,水冷裝置通過密封波紋管與反應室底部活動連接,水冷裝置底端通過振動轉換桿連接振動源;密封波紋管、振動轉換桿和振動源位于底架上,底架與反應室底部固定連接并安裝于傾角調整支架上。本發明傾斜式的振動陰極使粉??偺幱陉帢O表面附近緩慢下滑,振動使粉粒均布于陰極,打散硅粉團塊,該處離子能量最高刻蝕速率也高,下滑時間高達5至10分鐘,因此可一次處理滿足刻蝕要求;由于只采用氬氣進行物理刻蝕,非常有利于環保和操作人員健康。
聲明:
“硅粉表面刻蝕裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)