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去除多晶硅中雜質的方法

997   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 14:34:26
本發明公開了一種去除多晶硅中硼、磷等雜質的方法，包括以下步驟：以工業硅為原料，用有機溶劑清洗；將硅塊破碎后，用堿性溶液浸泡；用300-1000℃的氧氣或含氧氣的氣體氧化；加入王水中攪拌處理；加入到氟化氫和氯化氫的混合水溶液中攪拌處理后分離即得。本發明提供的方法為后續工藝提供了優質原料，滿足了生產低成本太陽能級多晶硅的需要，針對性強、流程簡單、投資低、環境友好、操作安全、除雜效果明顯。
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聲明：
“去除多晶硅中雜質的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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