本發明涉及一種霧化設備,特別是涉及一種水霧化或水氣霧化設備,用于制備金屬及合金粉末,屬粉末冶金設備技術領域。采用本發明的水霧化設備,與目前國內的水霧化設備相比,具有安全,生產出來的粉末其氧含量在50至500ppm的特點。本發明所發明的霧化設備具備如下三點的特征。1,本設備具有采用半化學如加入CO等還原性氣體及半機械密封如移動隔板的方式以降低熔煉室中氧含量的特點。2,本設備所采用的機械密封方式能完全隔開熔煉室和霧化室。該密封方式具備允許金屬溶液進入霧化室同時又可防止水汽進入熔煉室的特點,避免了可能發生爆炸。同時避免了霧化室中的水氣進入熔煉室,以免影響抽真空。3,本設備具有把熔煉設備裝在密封的容器中的特點。然后采用抽真空的方式抽走容器中的全部空氣,并在必要時采用惰性氣體或還原性氣體來進行保護。
聲明:
“半化學半機械密封式超低氧含量霧化設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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