PECVD尾氣處理裝置的制作方法

一種pecvd尾氣處理裝置 技術(shù)領(lǐng)域 1.本實(shí)用新型屬于尾氣處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種pecvd尾氣處理裝置。 背景技術(shù)： 2.半導體行業(yè)通常采用等離子體增強化學(xué)氣相沉積法制造減反射膜(例如氮化硅膜)，等離子體增強化學(xué)氣相沉積法簡(jiǎn)稱(chēng)為pecvd，其利用強電場(chǎng)，使所需的氣體源分子電離產(chǎn)生等離子體，等離子體中含有很多活性很高的化學(xué)基團，這些基團經(jīng)過(guò)經(jīng)一系列化學(xué)反應，在硅片表面形成固態(tài)薄膜。 3.目前沉積sin常采用的氣體有sih4、nh3和nf3等氣體，經(jīng)過(guò)沉積膜后，會(huì )產(chǎn)生大量尾氣。尾氣處理時(shí)，先將尾氣通入加熱腔內進(jìn)行燃燒，燃燒后產(chǎn)生大量顆粒和hf等，再通過(guò)噴淋將粉塵溶解在水里，并通過(guò)水泵抽走、而hf等氣體則通過(guò)管道排入廠(chǎng)務(wù)端。 4.但尾氣燃燒產(chǎn)生的大量顆粒難以溶解在水里，水泵抽出時(shí)，容易堵塞管道，而且管道中的hf和水蒸氣吸附在管道上時(shí)，會(huì )腐蝕管道，影響管道使用壽命。 技術(shù)實(shí)現要素： 5.有鑒于此，本實(shí)用新型的目的是提供一種pecvd尾氣處理裝置，解決現有技術(shù)尾氣燃燒產(chǎn)生的大量顆粒難以溶解在水里，水泵抽出時(shí)，容易堵塞管道，而且管道中的hf和水蒸氣吸附在管道上時(shí)，會(huì )腐蝕管道，影響管道使用壽命的問(wèn)題。 6.本實(shí)用新型通過(guò)以下技術(shù)手段解決上述技術(shù)問(wèn)題： 7.一種pecvd尾氣處理裝置，包括加熱腔、噴淋組件和水泵，所述加熱腔內設置有電子加熱棒，所述加熱腔一端設置有進(jìn)氣管道，另一端設置有出氣管道，所述出氣管道的末端設置有u型管道，所述出氣管道與u型管道之間安裝有粉碎機，所述u型管道的一端與粉碎機連通，另一端連接有噴淋管道，所述噴淋管道的末端設置有反應組件，所述反應組件包括反應腔、輸入管道和輸出管道，所述輸入管道和輸出管道均與反應腔連通，所述反應腔內裝填有一水合氨，所述輸入管道的自由端與噴淋管道連通，所述u型管道底部設有連接管，所述水泵的進(jìn)水口與連接管連通。 8.進(jìn)一步，所述噴淋組件包括管體、第一噴淋件、第二噴淋件和第三噴淋件，第一噴淋件、第二噴淋件和第三噴淋件三者結構相同，第一噴淋件包括水管和噴頭，所述第一噴淋件的噴頭位于出氣管道內，所述第二噴淋件和第三噴淋件的噴頭位于噴淋管道內。 9.進(jìn)一步，所述反應腔內設置有ph檢測儀。 10.進(jìn)一步，所述輸出管道處設置有過(guò)濾箱，所述過(guò)濾箱上連通有排氣管。 11.進(jìn)一步，所述粉碎機的上下兩端均設有水封接頭，所述水封