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高壓LED芯片深刻蝕工藝

875   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:56:59
本發明提供一種高壓LED芯片深刻蝕工藝，包括以下步驟：(1)選取外延片，首先進行MESA制程，制作出所需要的圖形；(2)進行掩膜SiO2層的沉積，同時對非腐蝕區域進行保護，然后CUT黃光制程；(3)浸泡BOE溶液，在室溫條件下濕法蝕刻待刻蝕走道的掩膜硅，再進行ICP干法刻蝕；(4)去除光刻膠，之后在進行180℃下浸泡自制襯底腐蝕液下腐蝕3～5min對刻蝕走道以及側壁進行化學濕法修飾；(5)高溫腐蝕結束后沖水洗凈，再于室溫條件下再浸泡BOE溶液去除掩膜硅清洗甩干；(6)掩膜硅去除后，再進行后續的P硅、ITO、PN、鈍化硅光刻，金屬熔合后完成點測。本發明使芯片刻蝕走道與側壁平整度明顯提高，可以減少HV芯片產品的漏電風險，提高HV芯片產品的電性品位。
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聲明：
“高壓LED芯片深刻蝕工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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