本發明涉及一種用于制造單晶硅片絨面的加熱裝置和方法,所述加熱裝置包括電源端、開關和設置在處理水池中的數個加熱管,所述加熱裝置還包括移相調壓模塊和溫度控制器,所述移相調壓模塊通過所述開關與電源端相連,所述溫度控制器上的溫度傳感器設置于所述處理水池中,用于檢測所述處理水池中的水溫,所述溫度控制器將所述溫度傳感器測得的水溫模擬值轉變成水溫數字值并計算所述水溫數字值對應的電流值,輸出所述電流值至所述移相調壓模塊,所述移相調壓模塊計算所述電流值對應的電壓值并輸出所述電壓值大小的電壓至每個加熱管中。本發明還提出一種利用上述加熱裝置進行硅片絨面制造的方法。利用本發明的加熱裝置及制造方法,可以穩定控制水溫,顯著提高整個處理水池溫度的均勻性,提高硅片表面制絨質量,并降低制絨時間及節省化學溶液的使用量。
聲明:
“用于制造單晶硅片絨面的加熱裝置和方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)