本發明公開了一種燃燒水洗式半導體廢氣處理裝置,包括:燃燒冷卻單元、儲液槽及填料洗滌塔;所述燃燒冷卻單元用于處理廢氣,使得廢氣高溫氧化分解產生酸性氣體和中性氣體;所述儲液槽用于吸收部分酸性氣體,并排出廢氣中的固體顆粒;所述填料洗滌塔用于吸收剩余的酸性氣體,并排出中性氣體;本發明利用甲烷及空氣燃燒產生的高溫燃燒使廢氣在高溫條件下氧化分解,產生的水溶性高溫酸性氣體通過冷卻塔冷卻后,部分酸性氣體進入到儲液槽進行堿洗中和吸收,同時使廢氣中夾雜的固體顆粒在儲液槽中沉降;剩余的酸性氣體進入填料洗滌塔吸收完全,最終使CVD設備產生的廢氣去除率達到95%以上,基本滿足排放到工廠排氣管道的要求。
聲明:
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