本發明公開了一種硫酸銅電鍍液、其制備方法和應用及電解槽。所述制備方法包括以下步驟:在電解槽中進行電解反應;所述電解的電解液為硫酸水溶液,所述硫酸水溶液的濃度為1mol/L?3mol/L;所述電解液的電流密度為9?10ASD。所述電解槽設置有陽極、陰極、陽離子交換膜和質子交換膜。本發明的制備方法沒有傳統的蒸發重結晶化學工藝過程,沒有廢氣和廢水排放,對環境友好,生產工藝簡單,制備的硫酸銅電鍍液純度高,質量可控可靠,可在半導體制造和封裝領域中的銅互聯電鍍中應用。
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