本發明涉及一種雷達領域,尤其涉及一種基于MEMS方法的激光雷達硅基板刻蝕處理裝置。技術問題:提供一種基于MEMS方法的激光雷達硅基板刻蝕處理裝置。本發明的技術方案是:一種基于MEMS方法的激光雷達硅基板刻蝕處理裝置,包括有廢水清理和保護機構、廢渣積聚機構和廢渣處理機構等;廢水清理和保護機構與廢渣積聚機構相連接;廢水清理和保護機構與廢渣處理機構相連接。本發明實現了能夠有效對硅基板進行刻蝕,刻蝕時不會損傷硅基板其它部位,并且能夠有效的將廢液和殘渣進行清理收集,達到保護環境,且使得后期驅動線圈的填入不存在問題,從而提高雷達使用壽命,并且確保了雷達準度的效果。
聲明:
“基于MEMS方法的激光雷達硅基板刻蝕處理裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)