本發明公開了一種用于超低輪廓銅箔及其覆銅板制備的化學沉積方法,包括以下步驟:對基材表面預處理,基材表面活化處理:將活化溶液均勻鋪展于預處理后的基材表面,加熱處理,在基材上得到活化層,進行一次或重復多次以下步驟,得到覆銅板:將銅前驅體溶液水平鋪展在活化層的表面,加熱處理。采用本發明公開的制備方法與工藝技術,可以流水線方式連續、高效地生產超低輪廓的銅箔或覆有超低輪廓銅箔的覆銅板,相應流程模式的建立,將兩種產品的生產過程合二為一,顯著降低了投資成本,可極大提高企業經濟效益。同時,采用薄層溶液方式實施的化學沉積模式,避免了大量工業廢水的產生與排放,有利于可持續發展與環境保護。
聲明:
“用于超低輪廓銅箔及其覆銅板制備的化學沉積方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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