本發明是關于半導體、液晶顯示器(LCD)等相關工業制程排放廢水,甚至其它事業所產生的含有機污染物的廢水的有機物的氧化去除,是關于一種借助注入臭氧及經紫外光照射的廢水中有機物氧化去除流程與裝置。一個處理含有機物廢水的流程與系統。此系統包括紫外光/臭氧(UV/ozone)氧化去除模塊,或一個或數個去除模塊串聯,此串聯可連續或不連續。一個UV/ozone氧化去除模塊主要包括臭氧產生器、臭氧吸入器、臭氧溶解槽、臭氧破壞裝置、紫外線(UV)反應槽及回流管路。UV/ozone氧化去除模塊的效率由回流水比例、臭氧濃度、及紫外線強度所控制。
聲明:
“廢水中有機物氧化去除系統與方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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