本發明公開了一種砷化鎵芯片高砷高鹽廢水和含砷研磨廢水綜合處理方法,目的在于解決砷化鎵芯片的高砷高鹽和含砷研磨廢水的處理問題。該方法包括如下步驟:(1)高砷高鹽廢水結晶脫鹽及單效蒸發預處理;(2)含砷研磨廢水沉淀預處理;(3)綜合廢水除砷除磷除氟沉淀處理;(4)芬頓臭氧二級氧化及沉淀處理;(5)氨氮去除;(6)樹脂吸附(7)污泥處理。本發明工藝合理,能夠解決高砷高鹽砷化鎵芯片廢水結晶堵塞、難沉淀的問題,消除高鹽和研磨液超細懸浮物對樹脂吸附的不利影響,保證處理后的廢水達標排放,具有顯著的經濟價值、環境價值,對于促進半導體產生的發展,具有現實的意義。
聲明:
“砷化鎵芯片高砷高鹽廢水和含砷研磨廢水綜合處理方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)