透明高折射率石墨烯量子點(diǎn)/聚合物納米復合薄膜及其制備方法

本發(fā)明屬于無(wú)機/聚合物光學(xué)納米復合材料領(lǐng)域，具體涉及一種透明高折射率石墨烯量子點(diǎn)/聚合物納米復合薄膜及其制備方法。復合薄膜是由石墨烯量子點(diǎn)和聚合物紫外固化以和熱固化后形成，在固化之前每1mL聚合物單體中，石墨烯量子點(diǎn)的含量為0.1～1g。是以石墨烯量子點(diǎn)(GQDs)作為無(wú)機納米相，以聚合物單體作為溶劑，通過(guò)溶劑熱法在聚合物單體中合成出GQDs，然后經(jīng)過(guò)過(guò)濾、旋涂、加入引發(fā)劑、紫外固化以及熱固化雙重處理直接固化成膜。所制備的膜層材料所得到的透明高折射率復合薄膜的透過(guò)率為80～95％，折射率為1.5～2.8，望在減反射涂層、光波導材料、光學(xué)透鏡以及其他光電領(lǐng)域實(shí)現應用。