固體氧化物電解池及其制備方法

本發(fā)明公開(kāi)一種低溫固體氧化物電解池及其制備方法，所述電解池包括氫電極層、電解質(zhì)層、電子阻擋層、隔層、氧電極層，其中，氫電極層為NiO與摻雜的氧化鈰LnxCe1?xO2組成的復合材料，電解質(zhì)層為摻雜的氧化鈰基材料LnxCe1?xO2，Ln為L(cháng)a、Gd、Sm、Pr、Er中的一種或多種，0.1≤x≤0.5，電子阻擋層為摻雜的氧化鋯基材料MyZr1?yO2，M為Y、Sc、Ce、Yb、La、Gd、Sm中的一種或幾種，0≤y≤0.5，隔層為摻雜的氧化鈰LnxCe1?xO2，LnxCe1?xO2，Ln為L(cháng)a、Gd、Sm、Y、Pr、Er中的一種或多種，0.1≤x≤0.5，氧電極為鈣鈦礦氧化物、類(lèi)鈣鈦礦氧化物或鈣鈦礦氧化物與摻雜的氧化鈰或類(lèi)鈣鈦礦氧化物與摻雜的氧化鈰構成的復合材料。本發(fā)明電解池具有優(yōu)異的低溫電解水制氫及供電解水和二氧化碳的性能。