本發明提供了中高氣壓微波等離子體射流熱處理/制備高純材料的方法與裝置,所述的微波等離子體射流裝置包括:微波源系統、波傳輸系統、進氣系統、等離子體反應區、收集系統、真空系統;待處理材料從旋氣頭排出時即面對漸變波導中傳輸的微波,等離子體的化學作用和熱作用對待處理材料或氣體進行處理;本發明提供的這種中高氣壓微波等離子體射流的產生方法和裝置增加了溫區可控的熱等離子體區域的范圍和可控性,降低了等離子體弧源的產生難度,提高了可行性和靈活性。本發明涉及的方法和裝置滿足氣壓范圍寬、溫度范圍寬、處理材料種類范圍寬,并可用于遠程等離子體實施材料表面處理技術。
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