ZnO薄膜激光燒蝕制作方法

ZnO薄膜激光燒蝕制作方法屬于光學(xué)功能材料技術(shù)領(lǐng)域?，F有用來(lái)制作ZnO薄膜的方法實(shí)施起來(lái)十分不易。本發(fā)明之ZnO薄膜激光燒蝕制作方法屬于一種Sol?Gel法，其特征在于，將乙酸鋅溶于有機溶劑，加入與鋅離子等物質(zhì)量的乙醇胺，攪拌后得溶膠液；將所述溶膠液旋涂于基片上，低溫熱處理得凝膠膜；采用激光燒蝕所述凝膠膜，激光功率為5～30W，燒蝕時(shí)間為1～1000sec，激光光源出光口與凝膠膜之間的距離為1～50cm，得ZnO薄膜。相比于現有脈沖激光沉積法，本發(fā)明之方法既不需要真空環(huán)境，也不需要特殊的保護氣氛，工藝條件比較寬松；不需要制作ZnO陶瓷靶，使得薄膜的制作方法大為簡(jiǎn)化。