本實用新型描述了用于涂覆可移動基板(20)的沉積源(100、200、300、400)和沉積設備(500)。所述沉積源包括:源外殼(120),通過可以在沉積期間移動基板(20)經過工藝腔室的敞開的前側的方式而固定到所述工藝腔室;氣體入口(130),用于將工藝氣體引入到所述源外殼的涂覆處理區域(125)中;以及抽空出口(140),用于將所述工藝氣體從所述源外殼的泵送區域去除。抽空分割單元(150)布置在所述涂覆處理區域(125)與所述泵送區域(126)之間,所述抽空分割單元具有至少一個開口或具有多個開口(152),所述至少一個開口或多個開口界定從所述涂覆處理區域(125)到所述泵送區域(126)中的工藝氣流路徑(155)。
聲明:
“用于涂覆可移動基板的沉積源和沉積設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)