一種間斷式真空爐坩堝支撐環,包括環形的坩堝支撐環(1),設在坩堝支撐環(1)上端內側的支撐環凸臺(2),在坩堝支撐環(1)內部形成的支撐環腔體(3)。本實用新型的有益效果是:使得坩堝的受熱面積增加,坩堝底部全部進入發熱板輻射范圍,減小了坩堝由于受熱面積過小造成應力不均勻,延長了坩堝壽命。坩堝外徑約等于甚至可以小于支撐環內孔直徑,在坩堝同等大小的情況下可以使用面積更大功率更高的發熱板,使得蒸餾溫度增加,從而可以對高沸點合金進行蒸餾。
聲明:
“間斷式真空爐坩堝支撐環” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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