本發明公開了一種多孔氧化鋁膜層及其制備方法。該多孔氧化鋁膜層的孔徑范圍為5?100nm,厚度為5?100μm。其制備方法包括以下步驟:(1)采用物理氣相沉積方法在多孔金屬基材表面沉積鋁膜;(2)對鋁膜進行氣氛退火處理;(3)對退火后的鋁膜進行表面清洗和電化學拋光;(4)利用陽極氧化法對鋁膜進行處理,獲得多孔氧化鋁膜。采用本發明的方法制備的多孔氧化鋁膜層具有膜層孔徑可控的特點,膜層內具有規則有序分布的垂直納米通孔。
聲明:
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