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用于激光晶體的光學薄膜結構及其制備方法

859   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
2023-03-18 15:02:02
本發明涉及一種用于激光晶體的光學薄膜結構及其制備方法,其特征在 于:在傳統的用于激光晶體的介質/金屬的復合膜系之間增加了一層硬質薄膜 緩沖層,其作用是增加介質-金屬復合膜系的結合力,并提高復合膜系的抗激 光損傷閾值,適應了大功率激光器的發展需要。所述的緩沖層薄膜是通過電 子束熱蒸發制備的,生長過程是首先將TiN顆粒及清洗后的襯底置于真空生 長室中;將生長室抽真空;利用電子束照射TiN顆粒,同時在真空室中通入 一定量的氮氣或是氮離子,TiN緩沖層薄膜就會沉積到襯底上。本發明TiN 緩沖層可以顯著提高復合膜系的結合力和抗激光損傷閾值,對于飛速發展的 高功率激光器有著重大的理論和現實意義。
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