本發明屬于光學鍍膜材料領域,具體涉及一種硅氧鋁三元復合光學鍍膜材料及其制備方法。本發明以固體置換法為技術核心,包括原料高溫燒結、沖壓成型、破碎篩分、真空燒結等工藝。本發明制備出的復合光學材料具有高致密性、高重現性及鍍膜高均勻性等特點,對傳統光學薄膜存在的不耐摩、膜層龜裂、出現網狀道子等現象進行改善。本發明制備方法操作工藝簡單便捷,得到復合硅氧鋁光學薄膜結構穩定,耐磨耐腐蝕,折射率低以及透光率高,可以廣泛用于光學鏡頭、手機面板、手機蓋板、行車記錄儀、安防鏡頭等光學元件中。
聲明:
“硅氧鋁三元復合光學鍍膜材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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