本發明屬于高溫難熔金屬靶材制備領域,具體涉及一種高致密度鉬鈮合金濺射靶材的制備工藝,該工藝包括如下步驟:原料混合;膠套裝粉作業;冷等靜壓作業,升壓至一定壓力后,保壓一段時間,然后泄壓,最后將壓制坯從膠套取出;真空燒結或氫氣保護燒結;熱等靜壓作業,對燒結坯直接進行熱等靜壓作業;熱軋作業,對鉬鈮合金進行金屬包套軋制,熱軋后退火去除應力;進行磨削等機加工作業,得到最終所需產品尺寸。該工藝步驟簡單,操作便捷,制備的鉬鈮合金濺射靶材純凈度、相對密度均滿足高端電子產品鍍膜領域使用需求,且生產成本低,產品尺寸寬泛,便于工業化批量生產。
聲明:
“高致密度鉬鈮合金濺射靶材的制備工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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